Technika Komputerowa

Jest procesem polegający na odtworzeniu wzorów fotomaski na podłożu półprzewodnikowym (w większości przypadków). Fotolitografie wykonuje się, w aby uzyskać powierzchnie z właściwym odwzorowaniem.
Proces ten jest wieloetapowy, z czego wyróżniamy kilka podstawowych faz: przygotowania powierzchni poprzez np. odtłuszczenie, nakładanie światłoczułej warstwy (najczęściej jest to emulsja światłoczuła), następnie następuje wygrzewanie, naświetlenia które przeprowadza się laserem ekscymerowym lub lampą rtęciową, następnie w etapie wywołania usuwa się część emulsji zależnie od jej polaryzacji, w dalszej części procesu wytrawia się płytkę i oczyszcza z pozostałej emulsji. Oczyszczanie następuje przez polerowanie płytki oraz poprzez trawienie plazmowe, w przypadku związków krzemu usuwa się warstwę jego tlenków metodami chemicznymi. Maskę przygotowuje się bardzo starannie można ją używać wielokrotnie, wykonuję się ja metodami litograficznymi. Naświetlanie jest momentem krytycznym w czasie wykonywania układów, maska musi być precyzyjnie ustawiona w stosunku do płytki, centrowaniem maski w poziomie i pionie zajmuje się specjalny komputer połączony z mikroskopem. Jak wynika z powyższego proces ten jest bardzo skomplikowany i pracochłonny. Obecnie rozmiary naświetlanych wzorów są ograniczone dyfrakcją wynikającą z praw optyki. Bez fotolitografii nie było by dzisiejszych komputerów oraz żadnych urządzeń do których budowy wykorzystuje się układy scalone.